Principio de pulverización de plasma: la pulverización de plasma es generar un arco de CC entre el cátodo y el ánodo (la boquilla), el cual calienta e ioniza el gas de trabajo introducido en el plasma de alta temperatura y lo pulveriza desde la boquilla para formar una llama de plasma. Después de que el polvo es introducido al chorro de plasma por el gas de alimentación de polvos, se funde, se acelera y se pulveriza sobre la superficie del material del sustrato pretratada para formar un recubrimiento. El plasma es el cuarto estado de la materia (diferente del sólido, líquido y gaseoso), es la base del proceso de pulverización térmica de plasma.
• La porosidad del recubrimiento es inferior al 4% • Alta resistencia de unión • Se pueden pulverizar espesores de recubrimiento más altos que la galvanoplastia química • Mayor eficiencia de deposición de recubrimiento • Más larga vida útil del cátodo y ánodo que la pistola de plasma común • Excelente resistencia a la fricción • Perfecta resistencia a la corrosión • Mejor suavidad de la superficie•